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中芯的7nm芯片,问题在哪里呢?

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小兔子米饭团 发表于 2022-4-18 15:18:46  | 显示全部楼层 | 阅读模式

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中芯国际是国内芯片制造技术最先进的厂商,并且少数能够量产14nm、N+1等工艺的芯片的厂商,而N+1工艺的芯片类似台积电7nm芯片。




另外,中芯国际还曾明确表示,在已经量产的产品中,良品率敢于同国际大厂相比较。同时, 28nm等芯片的风险进一步降低。




最主要的是,中芯国际联合CEO梁孟松在2020年底时曾明确表示,7nm芯片的研发任务也已经完成,5nm芯片的最艰难的多项工作也已经展开。





f636afc379310a55cde8d379a6cd70a380261084.jpeg 也就是说,中芯国际至少在2020年底就完成了7nm芯片的研发任务,如今已是2022年,时间也过去1年多的,却不见中芯国际7nm芯片。




要知道,就目前而言,全球能够量产7nm芯片的厂商仅有台积电和三星,英特尔的7nm芯片一再推迟,可能会在今年面世。




所以用户都关注中芯国际的7nm芯片,毕竟,早就完成了研发任务,为何迟迟没有试产、量产等消息,问题在哪里呢?





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首先,可能是设备。




据悉,要想生产制造7nm芯片,要么用DUV光刻机,要么用EUV光刻机,而这两种光刻机目前仅有ASML能够研发制造。




就目前而言,ASML的DUV光刻机已经向中芯国际出货,后者一次性购买11亿美元的DUV光刻机等设备,至于是否交付,目前还没有官方消息,EUV光刻机暂时还无法自由出货。




当然,用DUV光刻机也能够生产制造7nm芯片,台积电就用多层曝光工艺在DUV光刻机上量产了7nm芯片,而中芯国际的14nm芯片也是采用多层曝光工艺。




也就是说,DUV光刻机只要到货,最大的设备问题就解决了。





622762d0f703918fa70aebb640b5159d58eec401.jpeg 其次,可能是原材料等。




中芯国际方面曾表示,要生产制造10nm以下芯片,想在技术、设备以及原材料等方面脱离美技术是比较难的,部分必需品需要进口,DUV光刻机等设备仅是其一。




据悉,生产制造7nm芯片,除了需要多层曝光技术和DUV光刻机之外,还需要用到先进的光刻胶。




例如,先进的光刻胶则是被美日等厂商垄断,由于日厂商拒绝向三星提供先进的光刻胶等原材料,导致三星李在镕不得不亲自前往日厂商进行协商。





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另外,越是先进制程的芯片,其对硅材料的要求纯度就越高,部分高纯度硅等原材料也是需要进口的。




最后可能是成本和良品率。




据悉,用DUV光刻机虽然可以量产7nm等制程的芯片,但其存在工艺相对复杂、成本较高等问题,所以台积电仅用DUV光刻机生产制造了第一代7nm芯片。




EUV光刻机交付后,台积电就推出了第二代7nm EUV工艺,这意味着用DUV光刻机生产制造7nm芯片面临成本高的问题。





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另外一个就是良品率,这个问题困扰了很多厂商,三星5nm、4nm芯片的良品率至今都不高,而台积电在3nm芯片也将面临良品率和成本的问题。




以上都是这些猜测,毕竟,中芯国际梁孟松在公布了7nm芯片之后,其就没有再透露更多关于7nm芯片的消息,仅仅在资本开支中提到用研发制造先进制程的芯片。




不过,国内厂商在7nm芯片方面也实现了多个突破,像用于7nm芯片的ArF光刻胶已经在国内投产,光源系统生产制造基地已经立项开始建设,等等。





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14nm、N+1等工艺的芯片都能够突破量产,7nm芯片自然也不在话下,就像华为所说,芯片问题无非是时间问题、工艺问题、资金问题。




对于中芯的7nm芯片,你们怎么看,欢迎留言、点赞、分享。



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